光刻胶是进行微细图形加工，制造微电子器件和印制电路板的一种关键化学品，按反应机理及显影原理，可分为正型光刻胶和负型光刻胶。按曝光光源可分为可见光刻胶和紫外光刻胶和辐射光刻胶。
电子特种气体主要用于电子工业加工的保护、掺杂、蚀刻、离子注入、气相沉积等工序，包括纯气和纯气混和气。
电子封装材料主要用于承载电子元器件及其相互联线，起机械支持、密封环境保护、信号传递、散热和屏蔽等作用的基体材料。
高纯试剂，又称工艺化学品或湿化学品，是大规模和超大规模集成电路制作过程中的关键性基础化工材料，主要用于生产过程中的清洗、光刻、蚀刻和去胶等，其纯度和洁净度对于集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影响。
平板显示涵盖液晶显示(TFT-LCD)、等离子体显示(PDP)、有机发光显示(OLED)、电子纸显示(E-Paper)等显示技术。涉及的电子化学品主要包括玻璃基板、彩色滤光片、偏光片、掩膜版、荧光粉等。
印制电路板材料及配套化学品包括电路基材、树脂、油墨、抗蚀工艺用化学品、腐蚀剂及镀敷化学品等。
电子工业中涉及的电子化学品材料除上述大类外，还包括混成电路用化学品、电容器用材料、电器涂料、导电聚合物等其他电子电气用化学品。
又称电子化工材料。一般泛指电子工业使用的专用化学品和化工材料，即电子元器件、印刷线路板、工业及消费类整机生产和包装用各种化学品及材料。
按用途可分成基板、光致抗蚀剂、电镀化学品、封装材料、高纯试剂、特种气体、溶剂、清洗前掺杂剂、焊剂掩模、酸及腐蚀剂、电子专用胶黏剂及辅助材料等大类。电子化学品具有品种多、质量要求高、用量小、对环境洁净度要求苛刻、产品更新换代快、资金投入量大、产品附加值较高等特点，这些特点随着微细加工技术的发展越来愈明显。
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